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        本設(shè)備是一款超高分辨率低真空場發(fā)射掃描電鏡，

具有高真空和低真空（<200Pa）兩種真空模式，可以

對有機材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等

有電荷積累的樣品或污染性樣品進行超高分辨率表征。

性能及指標

1、分辨率：高真空模式：1.0nm @15kV，1.4nm @1kV 

                       低真空模式：1.5nm @10kV（Helix探測器），

                                                 1.8nm @ 3kV（Helix探測器）

2、加速電壓：500V~30kV連續(xù)可調(diào)；

3、電子束流范圍：0.6pA~200nA連續(xù)可調(diào)；

4、樣品臺移動范圍：X=Y=110mm；

5、電子束參數(shù)：射束著陸能量：500eV-30keV；

6、標樣放大倍數(shù)：40倍~60萬倍；

7、傾斜角度：-10°~70°

功能及用途

1、采集二次電子、背散射電子等信號對各種固體材料進行的微觀形貌分析；

2、對容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進行觀察和分析；

3、可實現(xiàn)固體樣品的微觀形貌觀察和微區(qū)能譜成分分析、線分析及面分布分析；

4、配備的背散射探頭可獲得樣品成分襯度圖片；

5、配備的低真空探頭可對不導(dǎo)電樣品進行形貌及成分分析，而不需要進行噴金處理。

對外服務(wù)

本公司掃描電鏡提供對外服務(wù)。